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※流量の安定性を求める場合はグラフの傾きの小さい領域の条件になるよう配管系を設計してください。 |
※レギュレーター性能について（検査基準） |
（形式選定時は各形式毎のSPECシートをご確認下さい）
| 接続形態 | PFAチューブ |
| 適応流体 | 純水・腐食性流体 |
| 耐久圧力 | 一次側圧力 0.3 ［MPa］（MAX） |
| 二次側圧力（背圧） 0.1 ［MPa］（MAX） | |
| 流体温度 | 10〜40［℃］ （HICV065, 130 10〜90［℃］） |
| 雰囲気・周囲温度 | 0〜40［℃］ |
| 設定エアー圧力 | （0.03）〜（0.1）［MPa］ （MAX） |
| 接液材質 | ボディ：PTFE ダイアフラム：PTFE シャフト：PTFE チューブ：PFA（131タイプ） |
| 特記事項 | 二次側設定圧力＋0.05［MPa］以上の供 給圧を維持してください。 |
| 基本的にHICVの二次側は全閉できません。 | |
| 二次側圧力の設定範囲はスペックシートを御参 照下さい。 | |
| 関係法規・規格 | 本製品は外国為替及び外国貿易管理法に定める 戦略物資に該当致します。 |
パーティクルカウンター
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スプレー
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※ポンプ選定時の注意 |
ポンプの脈動を取り安定供給する為にポンプの2次側にHICVを設置します。HICVを設置する事により1次側圧力が変動しても2次側圧力が一定となり2次側負荷が一定の場合は流量も一定になります。 エアーの供給には精密レギュレーターをご使用いただくことをおすすめします。 図の様に流路、エアー配管に圧力計、流量計を設置していただき、調節の際には1次側圧力、設定エアー圧力がHICVの仕様（スペック）を超えないよう注意しながら流量計等を用いて設定します。 |
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※流体の粘度変化や、沸騰、気体の混入及び、 発生が起こると |
電空レギュレーターを用いる事によりアナログ出力機器にて圧力、流量を設定する事が可能です。センサー、調節計を使えばフィードバック制御も可能です。 より応答の速いフィードバック制御を求められる場合は電空変換器をご使用下さい。 フィードバック制御時に設定エアー圧がHICVの仕様（スペック）を超えないよう注意してください。 |
従来のフィードバック制御方式は、流量をバルブ開度を調節する事によって制御しています。
そのため一次側の圧力変動が速いと計測から調節までの制御遅れで、逆に変化を増幅させてしまう危険性があります。（ハンチング、サイクリング）
HICVでのフィードバック制御の場合、瞬間的な圧力変動はHICVで取り除き、さらに流量計で計測した結果に基づき補正を掛け、流量を一定にする為、高速で安定した制御が可能です。
HICVの一次側の圧力変動についてはバルブが自力（セルフ）で制御（減圧制御）します。二次側の圧力は設定エアー圧により設定できますので、今までの開度コントロールをするバルブ、パルスダンパーでは不可能であった供給圧力変動条件下での定流量制御を可能にしました。
HICVは二枚のPTFEダイアフラムで接液部を隔離しています。これにより摺動部が無く、スプリングが接液しない構造を可能にしました。
IINより入った流体は下側のチャンバーからバルブ中心のオリフィスを通り、上側の調圧チャンバーに入り、右側のOUTから出ます。
上下チャンバーはダイアフラムにて外部と隔離されており、ダイアフラムとシャフトは連結されています。
圧力の調節は設定エアーの圧力と調圧チャンバー内の流体圧力がダイアフラムAを介してバランスをとることにより行なっています。一次圧が上昇して、調圧チャンバーの流体圧力が設定エアー圧に対して高くなると、力がダイアフラムを上に押す方向に作用します。それにより、シャフトが上に移動して流路を絞り、調圧チャンバー内の流体圧力を下げます。逆に調圧チャンバーの圧力が設定エアー圧に対して下がるとシャフトが下に移動して流路を開きます。HICVは常に圧力の平衡状態を維持するようにシャフトが上下し、オリフィスの開度を調節して調圧チャンバー内の圧力（二次側の圧力）を一定に制御します（セルフコントロール）。
構造上、HICVの二次側に負荷（抵抗）がない場合、調圧チャンバー内の流体圧力が低くなり、ダイアフラムAは下に押され、HICVは全開状態となり、制御できない状態となります。又、二次側の圧力は設定エアー圧より低くなります。
